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氧化鋁拋光液適用于金相和巖相研磨、拋光外，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。
氧化鋁拋光液是一種以多晶氧化鋁為主，氧化鋁顆粒大小均勻，相比氧化硅拋光液加工效率提高約3-4倍，成本節(jié)約30-50%，加工流程縮短，且不會在工件表面上形成硅元素結晶，減少清洗成本。
注意事項:
●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。
●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會影響去除率。
●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。
●拋光液的拋光效率，無結晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。
氧化鋁拋光液具有以下性能：
1、晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩(wěn)定性好；
2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；
3、研磨，拋光效果好，研磨效率遠遠二氧化硅等軟質磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。
4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。
使用與用量：
推薦用量為1～20％，使用者應根據不同體系經過試驗決定佳添加量。
◆ 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。
◆ 使用時，以不同濃度并據不同行業(yè)的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調制不同濃度。
當我們使用了這種拋光液之后，它可以通過純粹的機械拋光快速地去除材料，達到不錯的表面處理效果。而如果選用其它種類的拋光液，比如具有弱堿性的硅膠拋光液，那就要通過化學/機械的拋光方法與材料表面形成反應層。雖然柔軟的硅膠去除反應層也可以得到一個的表面，但是在工藝上無疑麻煩了許多。使用氧化鋁拋光液可以算是一次性拋光成型的。所以大家在大部分的情況下，比如我們在做金相時，往往都是使用這種可以通過純粹機械拋光的拋光液。
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