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10000.00元微波氧化石墨烯還原爐石墨鱗片膨化爐 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 該產(chǎn)品利用微波的分子震蕩加熱特性使介質(zhì)產(chǎn)生內(nèi)外一致的劇烈升溫從而達(dá)到瞬間膨化的目的，適用于膨脹石墨的制備領(lǐng)域，也同樣適用于11月19日 -
100.00元微波氧化石墨烯還原爐 袁高峰：18661934690 郵箱：ygf_qd@ QQ:957963417 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 該產(chǎn)品利用微波的分子震蕩加熱特性使介質(zhì)產(chǎn)生內(nèi)外一致的劇烈升溫從而達(dá)到瞬間膨化的目..02月27日
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9000.00元多晶硅還原爐鹵素加熱燈管，多晶硅還原爐紅外線加熱燈管，還原爐硅芯預(yù)熱燈管多晶硅還原爐電氣系統(tǒng)的主要設(shè)備是大功率調(diào)壓器。調(diào)壓器所帶負(fù)載是多晶硅棒串聯(lián)而成的純電阻負(fù)載。調(diào)壓器的作用實(shí)..02月25日
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型號(hào) AF1300-322-H2 用途 工件在氫氣還原氣氛下的熱處理工藝 參數(shù) 內(nèi)部尺寸：D300/W200/H200(mm) 內(nèi)部容積：12L 外形尺寸：D/W/H(mm) 設(shè)備重量：Kg 設(shè)備功率：5Kw ..05月22日
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106800.00元型號(hào) AF1300-322-H2 用途 工件在氫氣還原氣氛下的熱處理工藝 參數(shù) 內(nèi)部尺寸：D300/W200/H200(mm) 內(nèi)部容積：12L 外形尺寸：D/W/H(mm) 設(shè)備重量：Kg 設(shè)備功率：5Kw ..06月01日
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面議氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝，也可以進(jìn)行氧化工藝。 技術(shù)指標(biāo)： 工作溫度：200—1300 ℃ 加熱元件：..11月09日
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氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝，也可以進(jìn)行氧化工藝。 技術(shù)指標(biāo)： 工作溫度：200—1300 ℃ 加熱元件：..10月31日
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220000.00元設(shè)備：鐘罩式光亮退火爐，氣氛還原爐 鐘罩式光亮退火爐可廣泛用于有色金屬銅、鋁合金和黑色金屬、普碳鋼、硅鋼、合金鋼等卷帶、盤(pán)管、線材等光亮退火。 金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋?/div>04月12日65000.00元鍋爐脫硝_還原爐脫硝設(shè)備廠家 鍋爐產(chǎn)生的氮氧化物一直是客戶頭疼的問(wèn)題，現(xiàn)在因?yàn)樘針?biāo)的原因，氮氧化物降到100毫克已經(jīng)不能滿足客戶的需求，那么如何將煙氣NOX降到50毫克以下呢？有的09月25日65000.00元窯爐脫硝_還原爐脫硝設(shè)備廠家 鍋爐產(chǎn)生的氮氧化物一直是客戶頭疼的問(wèn)題，現(xiàn)在因?yàn)樘針?biāo)的原因，氮氧化物降到100毫克已經(jīng)不能滿足客戶的需求，那么如何將煙氣NOX降到50毫克以下呢？有的09月25日253000.00元高真空管式爐TF1200-200-HV-T10 產(chǎn)品用途：主要用于稀土制備、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、硬質(zhì)合金、3D打印金屬件（鈦合金TC4、23鈦等）真空熱處理、真08月26日20000.00元一、真空氣氛爐概述 本系列產(chǎn)品，使用硅碳棒為加熱元件，型號(hào)齊全，安全可靠，同時(shí)也可滿足于不同工藝實(shí)驗(yàn)而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶10月26日真空氣氛爐 MXQ1750系列 產(chǎn)品用途：適用于電子陶瓷、玻璃、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)。06月25日264.00元氮化硅陶瓷密封<br> 以硅粉為原料，添加質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%的成孔劑 (苯甲酸)球形顆粒，反應(yīng)燒結(jié)制備了氣孔率55%， 具有球形宏觀孔的低密度多孔氮化硅陶瓷研究了 硅粉粒徑對(duì)反應(yīng)燒04月15日氫氣還原爐 A 型號(hào) AF1300-322-H2 用途 工件在氫氣還原氣氛下的熱處理工藝 參數(shù) 內(nèi)部尺寸：D300/W200/H200(mm) 供參考，以實(shí)物為準(zhǔn)。 內(nèi)部容積：12L 外形尺寸：D/W/H(mm..06月01日氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝，也可以進(jìn)行氧化工藝。 技術(shù)指標(biāo)： 工作溫度：200—1300 ℃ 加熱元08月09日氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝，也可以進(jìn)行氧化工藝。 技術(shù)指標(biāo)： 工作溫度：200—1300 ℃ 加熱元件：..10月31日30500.00元產(chǎn)品名稱(chēng)：石墨烯氧化還原爐 產(chǎn)品用途：粉體石墨烯制備（氧化還原法） 參數(shù)介紹： 1、使用溫度:0~1100度（非金屬爐管）。 2、升溫速率：低溫段10-20°C/min，高溫段5-10°C/min，根據(jù)工藝進(jìn)行11月02日SCR(選擇性催化還原法）：SCR技術(shù)是還原劑(NH3、尿素等)在催化劑作用下，選擇性地與NOX反應(yīng)生成N2和H2O，而不是被O2所氧化，故稱(chēng)為“選擇性”。在SCR技術(shù)的應(yīng)用過(guò)程..02月16日38000.00元產(chǎn)品名稱(chēng)：氣氛回轉(zhuǎn)爐 粉體顆粒燒結(jié)爐 氣氛保護(hù)還原爐 雙溫區(qū)管式爐 一、產(chǎn)品用途 氣氛回轉(zhuǎn)爐，主要適用于粉體、顆粒在氣氛保護(hù)中的動(dòng)態(tài)燒結(jié)與還原。動(dòng)態(tài)燒結(jié)使物料更均勻、品09月16日
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