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真空氣相沉積

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  • 氣相沉積精密小型真空濺射儀真空鍍膜
    鄭州科探儀器設(shè)備是定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設(shè)計者和制造商,客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下,高度積極地開發(fā)新設(shè)..
    06月14日
  • 頂立科技廠家直銷臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)化學氣相沉積爐氣相沉積爐
    化學氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳氫氣體(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術(shù)特征 可根據(jù)客戶需求設(shè)計尺寸,能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求; 采用多
    05月27日
  • CVD化學氣相沉積設(shè)備
    設(shè)備介紹: 本設(shè)備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低
    09月11日
  • 半導體真空氣相沉積磁控薄膜沉積真空鍍膜濺射儀
    鄭州科探儀器設(shè)備是定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設(shè)計者和制造商,客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積鍍膜技術(shù)經(jīng)驗。氣相沉積濺射其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下,高..
    06月14日
  • 頂立科技廠家直銷立式化學氣相沉積爐(碳化硅)氣相沉積爐沉積爐
    該立式化學氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。 技術(shù)特征 采用先進的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動范圍??;
    01月15日
  • 頂立科技廠家直銷立式化學氣相沉積爐(沉積炭)CVD/CVI氣相沉積爐
    立式化學氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳氫氣體(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術(shù)特征 根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)構(gòu)設(shè)置溫區(qū),溫度均勻性好; 采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密
    05月27日
  • PEVCD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)石墨烯生長常用設(shè)備
    (一)產(chǎn)品用途:對于石墨烯生長工藝非常合適。制作硅片可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,對于離子注入后的貴金屬,各種黃
    05月24日
  • 物理氣相沉積(PVD)設(shè)備市場專項調(diào)研及投資前景預測報告
    中國物理氣相沉積(PVD)設(shè)備市場專項調(diào)研及投資前景預測報告2024-2030年【報告編號】56004【出版日期】2024年7月【交付方式】電子版或特快專遞【報告價格】【紙質(zhì)版】:6500 【電子版】:6800 ..
    09月30日
  • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)
    等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),價格咨詢15301310116 北京麥迪森科技有限公司 符合CE認證標準的三溫區(qū)CVD系統(tǒng),生長樣品腔的管徑60-120mm,它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與
    04月18日
  • 氣相沉積爐CVD爐
    180000.00元
    一、產(chǎn)品簡介: 該設(shè)備ZYG1700-100是一款非標定制的小型雙溫區(qū)管式爐;可實現(xiàn)一邊進氣做氣象沉積同時還能抽真空,保持爐膛內(nèi)的真空度為負壓的狀態(tài);真空系統(tǒng)由干泵+分子泵組成真空度可達6.67..
    12月11日
  • 高校實驗室等離子體化學氣相沉積等離子模塊
    等離子體化學氣相沉積( plasma chemical vapor deposition)簡稱PCVD,是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態(tài)膜的技術(shù)。等離子體化學氣相沉積技術(shù)..
    10月28日
  • 供應CVD實驗爐化學氣相沉積實驗爐
    設(shè)備名稱:鴻峰牌CVD設(shè)備化學氣相沉積爐 設(shè)備用途: 真空CVD設(shè)備&化學法氣相沉積實驗爐主要用于實驗室新型炭材料和膜材料的化學沉積實驗,屬于管式高溫回轉(zhuǎn)爐。 該設(shè)備燒結(jié)溫
    03月12日
  • 一種石墨烯薄膜連續(xù)式氣相沉積爐
    供應石墨烯氣相沉積法鴻峰牌CVD系統(tǒng) 該設(shè)備為咸陽鴻峰窯爐設(shè)備有限公司自主設(shè)計的化學氣相沉積爐,主要針對石墨烯薄膜的連續(xù)式沉積,屬于宏量制備系統(tǒng)。 設(shè)備特點: 1.該設(shè)備可以實
    02月28日
  • CVD化學氣相沉積實驗1700度CVD實驗爐
    產(chǎn)品用途:主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進行真空燒結(jié)、氣氛保護燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實驗、物質(zhì)成分
    05月27日
  • 派瑞林真空氣相沉積工藝與其他涂層方式的區(qū)別
    很多客戶都在尋找優(yōu)于傳統(tǒng)(液體)涂層方式的鍍膜產(chǎn)品,這時您可能會搜索到一個叫派瑞林涂層的工藝,那么我們?yōu)槭裁床辉龠x擇液體涂層方式而改用氣相沉積的派瑞林鍍膜方式了呢?派瑞林涂層工藝與..
    09月24日
  • 派珂納米parylene真空氣相沉積設(shè)備VPC-508
    產(chǎn)品名稱 Parylene真空氣相沉積鍍膜機 產(chǎn)品型號 VPC-508 工作環(huán)境 電源:380V 五線 6平方以上電纜,大功率15KW 環(huán)境溫度:0-40℃ 環(huán)境濕度:<90% 控制系統(tǒng) PLC控制系統(tǒng) 尺寸 外觀尺寸..
    06月30日
  • 氣相自動切換閥日本ITO伊藤AX-30A
    氣相自動切換閥日本ITO伊藤AX-30A 概述 液化石油氣用自動切換式一體型調(diào)壓器左右兩方各有一個入口,一方(正在使用方)的液化氣容器的供氣壓力不能維持正常供應時,由另一方(預備方)
    04月09日
  • 蘇威SOLVAYGALDENHS240HS260氣相焊接液
    蘇威SOLVAY GALDEN HS 240 HS 260 氣相焊接液 應用領(lǐng)域:半導體、電子工業(yè)氣相焊接 蒸汽焊接 產(chǎn)品..
    04月08日
  • 蘇威SOLVAYGALDEN系列LS155LS165氣相焊接液
    蘇威SOLVAY GALDEN系列 LS 155 LS 165 氣相焊接液 應用領(lǐng)域:半導體、電子工業(yè)氣相焊接 蒸汽焊接 產(chǎn)品型號:LS 155..
    04月08日
  • ITO日本伊藤LPG調(diào)節(jié)閥氣相切換閥AX-160-0
    ITO日本伊藤LPG調(diào)節(jié)閥氣相切換閥AX-160-0 日本伊藤ITOKOKI分離式自動切換閥AX-30A-0,AX-50-0,AX-160-0,AX-210A-0氣相自動切換閥/自動切換調(diào)壓器/減壓閥/調(diào)壓閥 ?AX系列液化氣自動切換調(diào)..
    12月12日
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黃頁88網(wǎng)提供2025最新真空氣相沉積價格行情,提供優(yōu)質(zhì)及時的真空氣相沉積圖片、多少錢等信息。批發(fā)市場價格表的產(chǎn)品報價來源于共9家真空氣相沉積批發(fā)廠家/公司提供的207226條信息匯總。

 
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