隨著鍍膜技術(shù)的快速增長(zhǎng),各種類(lèi)型的真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線也開(kāi)始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性,恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響,現(xiàn)在我們就濺控濺射鍍膜機(jī)來(lái)看看造成不均勻的因素有哪些。
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