廈門光刻膠   美國(guó)光刻膠

• AZ NLOF2020是一種?負(fù)性光刻膠?，通過(guò)紫外光曝光后發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)，曝光區(qū)域在顯影液中保留，未曝光區(qū)域被溶解。其特點(diǎn)是?高深寬比?和?陡直度?（接近垂直襯底表面），適用于圖形轉(zhuǎn)移
  

• ?物理狀態(tài)?：無(wú)色透明液體，化學(xué)穩(wěn)定性良好，適配多種基材（如硅、玻璃等）
  

• ?分辨率?：未明確提及具體數(shù)值，但同類負(fù)膠通常支持亞微米級(jí)圖形（≥1μm線寬）
  

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• ?顯影液?：推薦?MIBK混合溶液?，顯影時(shí)間需優(yōu)化（通常20-60秒

• 電子光刻膠制造（如高深寬比結(jié)構(gòu)剝離工藝）

• 粘合劑、涂料及油墨的微細(xì)圖形化

• ?配套工藝?：需搭配?HMDS增粘劑?預(yù)處理基板，提升附著力

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