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美國光刻膠半導(dǎo)體蝕刻液規(guī)格款式

更新時(shí)間:2025-09-02 [舉報(bào)]

廈門光刻膠   美國光刻膠


  • ?硅蝕刻液?:主要用于減薄、打毛、多晶硅蝕刻、氧化硅蝕刻等工藝

  • ?金屬蝕刻液?:用于金屬鎢、鋁、銅、鈷、鎳、銀、金、鈦等結(jié)構(gòu)層的蝕刻工藝

  • ?ITO蝕刻液?:用于蝕刻ITO膜層,常用于顯示面板等領(lǐng)域

  1. 江蘇尚純自動(dòng)化技術(shù)有限公司開發(fā)了半導(dǎo)體蝕刻液自動(dòng)化包裝裝置,可提高包裝質(zhì)量和效率

  2. 包裝容器需、耐腐蝕且低溶出,確保存儲(chǔ)和運(yùn)輸安全

  3. 電子級(jí)化學(xué)品純度需超過99%,雜質(zhì)離子和金屬污染物含量控制在ppb甚至ppt級(jí)別

  4. 40%硝酸電子級(jí)MOS級(jí)具有純度和的濃度控制





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