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美國光刻膠pg去膠液半導體芯片光刻膠剝離液

更新時間：2025-09-04 [舉報]

廈門光刻膠    美國光刻膠

?性?通用型去膠產品專為半導體制造設計
?腐蝕性?相對較高極低，特別針對金屬和半導體襯底
?緩蝕體系?通常不含含有復合緩蝕劑體系
?應用場景?一般工業(yè)去膠芯片制造
?成本?較低較高


標簽：美國光刻膠光刻膠
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